特点简介: 1． 外采用SECC钢板，精粉体烤漆处理，内为SUS不锈钢； 2． 操作手续简便，温度均匀度佳； 3． 耐真空度高达5×10—3Torr； 4． 气阀及进气阀采用球阀，使用方便，紧密性高； 5． 超温保护、超负载自动断电； 6． 矽胶迫紧紧（Silicon Packing）; 7． 循环方式，热幅射及自然对流； 8． 强化玻璃初视窗。

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等离子工艺处理的研发需要多功能且可靠的等离子处理系统。为了满足等离子研究日新月异的要求，用户选购的系统设备满足大范围的等离子工艺参数需要，工艺验证需要极其高的可重复性，必须方便改造用于新的等离子工艺需要。我们相信BM8-II反应离子刻蚀（RIE）/沉积（PEVC

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